Küresel Darbeli Lazer Biriktirme Sistemi
Bu sistem, küresel darbeli lazer biriktirme sistemi (PLD) için bir araştırma ve geliştirme ekipmanıdır. Darbeli lazer biriktirme teknolojisi yaygın olarak kullanılmakta olup, metaller, yarı iletkenler, oksitler, nitrürler, karbürler, borürler, silisitler, sülfürler ve florürler gibi çeşitli maddelerin ince filmlerini hazırlamak için kullanılabilir. Elmas ve kübik nitrür filmler gibi sentezlenmesi zor bazı malzeme filmlerinin hazırlanmasında bile kullanılır.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Çin
- 44 iş günü
- 50 set
- bilgi
Ürün Tanıtımı
TheKüresel Darbeli Lazer Biriktirme (PLD) SistemiGelişmiş ince film üretimi için tasarlanmış yüksek performanslı bir araştırma ve geliştirme platformudur. Darbeli Lazer Biriktirme (PLD), yüksek enerjili bir lazer ışınının hedef malzemenin küçük bir alanına odaklandığı bir tekniktir. Yoğun enerji yoğunluğu, hedefin bir kısmını buharlaştırır veya iyonize eder ve püskürtülen malzemenin alt tabakaya doğru hareket etmesini sağlayarak burada yoğunlaşarak ince bir film oluşturur.
Çeşitli ince film hazırlama yöntemleri arasında PLD, metaller, yarı iletkenler, oksitler, nitrürler, karbürler, borürler, silisitler, sülfürler ve florürler dahil olmak üzere çok çeşitli malzemelerin biriktirilmesinde yaygın olarak kullanılmaktadır. Ayrıca, elmas ve kübik bor nitrür (c-BN) gibi sentezlenmesi zor malzemelerin filmlerinin oluşturulmasında da kullanılabilir.
Theküresel PLD sistemiKüresel vakum odası tasarımına sahip olan bu cihaz, hassas hedef buharlaştırma için yüksek enerjili lazer darbeleri (güç < 4 kW) kullanır ve metallerin, oksitlerin ve nitrürlerin homojen ince film birikimini mümkün kılar. Yüksek vakum kapasitesi, olağanüstü film saflığı sağlar. Dört konumlu dönen hedef düzeneği, vakumu bozmadan çok malzemeli ardışık birikime olanak tanır.
Gözlem penceresi ve MFC kontrollü gaz girişi ile donatılmış paslanmaz çelik bir hazneden oluşan sistem, elmas ve kübik nitrürler gibi refrakter malzemelerle yapılan deneyleri destekler. Bu ekipman, özellikle film bileşimi ve mikro yapısı üzerinde sıkı kontrol gerektiren, ileri düzey ince film çalışmaları yapan üniversiteler ve araştırma enstitüleri için idealdir.
Ana Özellikler
1. Küresel Vakum Odası Tasarımı:304 paslanmaz çelikten argon ark kaynağı ile üretilmiş olup, Φ300 mm etkin hazne çapına sahiptir. Gerçek zamanlı deney izleme için görünür gözlem penceresi ile donatılmıştır.
2. Ultra Yüksek Vakum Performansı:Son derece yüksek nihai vakum, hızlı pompalama hızı ve düşük sızıntı oranı sağlar.
3. Hassas Lazer Biriktirme:Hedef malzemeleri buharlaştırmak için yüksek enerjili lazer darbeleri (<4 kW) kullanır ve metallerin, oksitlerin, nitrürlerin ve diğer bileşik malzemelerin ince film birikimini destekler.
4. Dört Hedefli Döner Sistem:Tek hedefli pozlama ile deklanşör aracılığıyla gezegensel ve kendi kendine dönüş özelliğine sahip olup, çoklu malzeme sürekli biriktirmeye olanak tanır.
5. Yüksek Sıcaklık Alt Tabaka Tutucu:Karmaşık proses gereksinimlerini karşılamak için hassas sıcaklık kontrolü ve ayarlanabilir dönüş hızı sağlar.
6. Araştırma Düzeyinde Uyumluluk:Elmas ve kübik nitrür filmler gibi refrakter malzemelerin hazırlanmasında, ileri malzeme Ar-Ge'si için idealdir.
7. Akıllı Güvenlik Yapılandırması:Dahili fırınlama, aydınlatma ve su basınç alarm sistemleri ile donatılmış olup; MFC kontrollü gaz girişi (0–100 sccm) stabil proses koşulları sağlar.
8. Hızlı Kurtarma Yeteneği:12 saatlik pompa kapanmasından sonra vakumu ≤20 Pa'da tutarak deneysel verimliliği artırır.
9. Modüler Yapı:Farklı biriktirme düzeneklerine esnek adaptasyon için alt tabaka tutucu ile dönen hedef sistemi arasındaki ayarlanabilir mesafe.
10. Küçük Ölçekli Üretim İçin Optimize Edilmiştir:Keşifsel araştırmaları hassas ince film üretimiyle birleştiren, üniversiteler ve araştırma enstitüleri için uygundur.
Tteknik Parametreler
Ürün adı | Küresel Darbeli Lazer Biriktirme Sistemi (PLD) |
Kurulum Koşulları | 1. Ortam sıcaklığı: 10℃～35℃ 2. Bağıl nem: %75'ten fazla olmamalıdır 3. Güç kaynağı: 220V, tek fazlı, 50±0,5 Hz 4. Ekipman gücü: 4 kW'dan az 5. Su temini: 0,2 MPa～0,4 MPa su basıncı, 15℃～25℃ su sıcaklığı, 6. Ekipmanın çevresi temiz olmalı, havası temiz olmalı, elektrikli aletlerde veya diğer metal yüzeylerde korozyona neden olabilecek veya metaller arasında iletkenliğe yol açabilecek toz veya gaz bulunmamalıdır. |
Ana Parametreler (Şartname) | 1. Sistem küresel yapıda olup manuel ön kapıya sahiptir. 2. Vakum odası bileşenleri ve aksesuarlarının tamamı yüksek kaliteli paslanmaz çelikten (304), argon ark kaynağı ile üretilmiş olup, yüzey cam püskürtme ve elektrokimyasal parlatma ve pasifleştirme işlemlerine tabi tutulmuştur. 3. Vakum odası, görsel bir gözlem penceresi ile donatılmıştır. Vakum odasının etkin boyutu Φ300 mm'dir. 4. Vakum derecesinin sınırı: ≤6,67×10-5Pa (Pişirme ve gaz giderme işleminden sonra havayı pompalamak için 600L/S moleküler pompayı, ön sahne için ise 8L/S'yi kullanın); · Sistem vakum kaçağı tespitinin kaçak oranı: ≤5.0×10-7Pa.L/S; · Sistem atmosferden 8,0×10'a hava pompalamaya başlar-440 dakikada ulaşılabilen Pa; · Pompa 12 saat durdurulduktan sonra vakum derecesi: ≤20 Pa 5. Numune aşaması: Numune boyutu φ40mm, dönüş hızı 1-20RPM ve alt tabaka aşaması ile dönüş hedefi arasındaki mesafe 40-90mm'dir. 6. Numunenin maksimum ısıtma sıcaklığı: 800℃, sıcaklık kontrol hassasiyeti: ±1℃ ve sıcaklık kontrolü için sıcaklık kontrol ölçer kullanılır. 7. Dört istasyonlu dönüş hedefi: Her hedef pozisyonu φ40mm'dir, deflektör/perde üzerinde yalnızca bir hedef pozisyonu açığa çıkar, lazer ışınının en üst hedef pozisyonuna ulaşması gerekir ve dönüş hedefinin dönüş ve otorotasyon fonksiyonları vardır. 8. Vakum odasına pişirme, aydınlatma ve su basıncı alarm cihazları yerleştirilmiştir. 9. MFC tek yönlü kütle akış ölçer (emme havasını kontrol etmek için): 0-100sccm |
Garanti
Ömür boyu destekle sınırlı bir yıl (yetersiz depolama koşulları nedeniyle paslanan parçalar hariç)
Lojistik
