-
Yüksek Vakumlu Plazmayla güçlendirilmiş Kimyasal Buhar Biriktirme Sistemi (PECVD)
Paralel Plakalı Kapasitif PECVD, katı hal filmleri oluşturmak üzere alt tabaka yüzeyinde veya yüzeye yakın alanda kimyasal reaksiyonları teşvik etmek amacıyla reaktif gazları aktive etmek için plazma kullanan bir teknolojidir. Plazma kimyasal buhar biriktirme teknolojisinin temel prensibi, yüksek frekanslı veya DC elektrik alanının etkisi altında, kaynak gazın plazma oluşturmak üzere iyonize edilmesi ve düşük sıcaklıktaki plazmanın enerji kaynağı olarak kullanılması, uygun miktarda reaktif gazın kullanılmasıdır. tanıtılır ve plazma deşarjı reaktif gazı aktive etmek için kullanılır ve kimyasal buhar birikimi oluşturur.
Send Email ayrıntılar -
Küresel Darbeli Lazer Biriktirme Sistemi
Bu sistem, küresel darbeli lazer biriktirme sistemi (PLD) için bir araştırma ve geliştirme ekipmanıdır. Darbeli lazer biriktirme teknolojisi yaygın olarak kullanılmaktadır ve metaller, yarı iletkenler, oksitler, nitrürler, karbürler, borürler, silisitler, sülfürler ve florürler gibi çeşitli maddelerden ince filmler hazırlamak için kullanılabilir. Hatta elmas ve kübik nitrür filmler gibi sentezlenmesi zor bazı malzeme filmlerinin hazırlanmasında bile kullanılır.
Send Email ayrıntılar
