SiC Taşlama Filmi

SiC Parlatma Filminin (PSA) Tanıtımı:

SiC taşlama filmi (PSA), uluslararası alanda gelişmiş ultra hassas kaplama teknolojisi kullanılarak üretilir. Mikron veya nano boyutlu aşındırıcı tozlar (silisyum karbür), yeni bir polimer malzemeye homojen bir şekilde dağıtılır ve yüksek mukavemetli bir filmin yüzeyine kaplanır. Daha sonra yüksek hassasiyetli kesme teknolojisi kullanılarak işlenir. SiC taşlama filmi (PSA), öncelikle seramik yüksüklerin kaba taşlanması ve çapak alma; plastik yüksüklerin taşlanması ve parlatılması; ve manyetik başlıkların hassas taşlanması ve parlatılması gibi yüksek yüzey düzlüğü gerektiren çeşitli inorganik metal olmayan malzemelerin taşlanmasında kullanılır. SiC taşlama filmi (PSA), esas olarak şirketimiz tarafından üretilen UNIPOL serisi taşlama ve parlatma makineleriyle kullanım için uygundur. Taşlama filminin yapışkan bir arka yüzü vardır, bu da doğrudan parlatma taban plakasına yapıştırılmasını ve ardından numune taşlama ve parlatma için taşlama diski yüzeyine yapıştırılmasını sağlar.

Silisyum karbür taşlama filminin başlıca özellikleri:

1. Silisyum karbür taşlama filmi iyi mukavemet ve esnekliğe sahip olup taşlama kalitesini artırır.

2. İyi bir dayanıklılığa ve yüksek öğütme verimliliğine sahiptir.

3. Öğütülmüş numuneler yüksek yüzey düzlüğü sergiler.

Teknik Parametreler:

Hakkımızda:

1. Yerli elmas tel kesme ve ultra yüksek basınçlı hassas numune hazırlama teknolojilerindeki çeşitli eksiklikleri gidermek amacıyla onlarca buluş patenti ve faydalı model patenti biriktirdik ve bunların başvurularını yaptık.

2. ICPNS (Rusya) ve PRICM (Pasifik Kıyısı Uluslararası İleri Malzeme Konferansı) gibi uluslararası akademik konferanslara aktif olarak katılıyoruz ve hizmetlerimiz dünya çapında birçok ülke ve bölgeye ulaşıyor.

3. Deneyimli numune hazırlama teknolojisi ekibimize güvenerek, sadece ekipman değil, aynı zamanda olgunlaşmış numune hazırlama süreç teknolojileri de sağlıyoruz.