Çift Kafalı Yüksek Vakumlu Magnetron Plazma Püskürtme Kaplayıcı

Marka Shenyang Kejing

Ürünün menşei Shenyang, Çin

Teslimat süresi 22 iş günü

arz kapasitesi 50 takım

VTC-600-2HD Çift Kafalı Magnetron Püskürtme Kaplayıcı, firmamız tarafından yeni geliştirilen yüksek vakumlu kaplama ekipmanıdır ve tek katmanlı veya çok katmanlı ferroelektrik film, iletken film, alaşımlı film, yarı iletken film, seramik filmler hazırlamak için kullanılır. dielektrik film, optik film, oksit film, sert film, PTFE film vb. VTC-600-2HD çift kafalı magnetron püskürtme kaplayıcı, iki hedef tabancası ve iki güç kaynağı, iletken olmayan malzemelerin püskürtmeli kaplaması için bir RF güç kaynağı ile donatılmıştır. malzemeler ve iletken malzemelerin püskürtmeli kaplaması için bir DC güç kaynağı.

Email

Çift Kafalı Yüksek Vakumlu Magnetron Plazma Püskürtme Kaplayıcı

Ana Özellikler

1. İki hedef tabancasıyla donatılmıştır; iletken olmayan malzemelerin püskürtmeli kaplaması için bir RF güç kaynağı kullanılır ve iletken malzemelerin püskürtmeli kaplaması için bir DC güç kaynağı kullanılır.

2. Çok çeşitli uygulamalarla çeşitli ince filmler hazırlanabilir.

3. Küçük boyutlu ve kullanımı kolay

TTeknik Parametreler

Ürün adı	VTC-600-2HD Çift Kafalı Magnetron Püskürtme Kaplayıcı
ürün modeli	VTC-600-2HD
Kurulum Koşulları	Bu ekipmanın 1000 m veya daha düşük bir yükseklikte, 25°C±15°C sıcaklıkta ve %55Rh±%10Rh nemde kullanılması gerekir. 1. Su: Ekipman, kendi kendine dolaşan bir su soğutucuyla donatılmıştır (saf su veya deiyonize su ile doldurma) 2. Elektrik: AC220V 50Hz, iyi bir topraklamaya sahip olmalıdır 3. gaz: Ekipman haznesinin argon gazı ile doldurulması (%99,99 saflık veya daha fazla) ve argon gazı tüplerinin (Ø6mm çift yüksüklü bağlantılara sahip) ve basınç düşürücü vananın kullanıcılar tarafından sağlanması gerekmektedir. 4. Tezgah: boyut 1500mm × 600mm × 700mm, 200kg'dan fazla taşıma 5. Havalandırma cihazı: gerekli
Ana Parametreler (Şartname)	1. Güç kaynağı voltajı: 220V 50Hz 2. Güç: 900W 3. Haznenin iç çapı: Ø300mm 4. Vakum derecesi sınırı: 9.0×10-4Pa 5. Numune aşamasının ısıtma sıcaklığı: RT-500°C, doğruluk ±1°C (Sıcaklık gerçek ihtiyaçlara göre artırılabilir.) 6. Hedef silah sayısı: 2 adet (diğer miktarlar isteğe bağlıdır) 7. Hedef tabancanın soğutma yöntemi: su soğutma 8. Hedef malzemenin boyutu: Ø2″, kalınlık 0,1-5 mm (farklı hedef malzemeler nedeniyle farklı kalınlıklar) 9. DC püskürtme gücü: 500W; RF püskürtme gücü: 300W (Hedef güç kaynağı türü isteğe bağlıdır; iki DC güç kaynağı veya iki RF güç kaynağı veya bir DC güç kaynağı artı bir RF güç kaynağı seçilebilir.) 10. Örnekleme aşaması: Ø140mm, daha yüksek kalitede kaplama elde etmek için müşteri gereksinimlerine göre isteğe bağlı ön gerilim fonksiyonu kurulabilir. 11. Örnek aşamasının hızı: 1 rpm-20 rpm arasında ayarlanabilir 12. Çalışma gazı: Ar ve diğer inert gazlar 13. Giriş havası yolu: Kütle akış ölçer 2 hava giriş yolunu kontrol eder, biri 100SCCM, diğeri 200SCCM'dir.
Ürün Boyutu ve Ağırlığı	1. ana makine boyutu: 500mm×560mm×660mm 2. Genel boyut: 1300mm×660mm×1200mm 3. Vakum odası boyutu: φ300×300mm 4. Ağırlık: 160kg
Standart aksesuarlar	1. DC Güç Kontrol Sistemi: 1 takım 2. RF Güç Kontrol Sistemi: 1 takım 3. Film Kalınlığı İzleme Sistemi: 1 set 4. Moleküler Pompa (Almanya'dan ithal): 1 adet 5. Su Soğutucu: 1 adet 6.Polyester PU boru (Ø6mm): 4m
İsteğe bağlı Aksesuarlar	Altın, indiyum, gümüş, platin vb. gibi çeşitli hedef malzemeler.